现代制造工程 ›› 2023, Vol. 508 ›› Issue (1): 90-96.doi: 10.16731/j.cnki.1671-3133.2023.01.013

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影响TA1钛合金电解质等离子抛光的关键因素研究

李思雪,孙桓五,杨冬亮,段海栋,纪刚强   

  • 发布日期:2023-02-14
  • 基金资助:
    山西省重点研发计划项目(201903D121091)

  • Published:2023-02-14

摘要: 为了研究一种高效率、高质量的TA1钛合金植入物表面光整加工方法,在对TA1钛合金电解质等离子抛光过程中的电流-电压特性分析的基础上,研究工作电压、抛光液温度及抛光时间等关键因素对表面粗糙度和材料去除率的影响规律及作用机制,并对电解质等离子抛光前后试样表面的显微形貌、微观组织结构及硬度变化进行表征,验证该方法的有效性。研究结果表明,当工作电压为300和350 V时,采用电解质等离子抛光能够获得表面粗糙度值较小的表面,并且材料去除率随工作电压升高而降低;随抛光液温度升高,试样表面粗糙度增加,同时材料去除率降低;随抛光时间延长,试样表面粗糙度呈下降趋势;电解质等离子抛光后TA1钛合金结晶度提高,晶粒长大;电解质等离子抛光可去除TA1钛合金表面机械作用产生的加工硬化层,同时增强材料的塑性和韧性。

关键词: 电解质等离子抛光; TA1钛合金; 表面粗糙度; 材料去除率; 微观组织结构

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