摘要： 为了掌握一套可以改善锗片表面质量以及表面形貌的研磨工艺，采用单因素与正交试验相结合的方法进行水基磁流体研磨锗片试验。通过大量的试验，分析研磨时间、质量比(磁性磨粒与水基液)、磁性磨粒粒度以及磁极转速等工艺参数对锗片表面质量的影响。根据正交试验结果可知，5∶100的质量比，W7的磨粒粒度，900 r/min的磁极转速为理想的工艺参数。质量比、磨粒粒度与磁极转速都是影响锗片表面粗糙度和研磨速率的因素，其中磨粒粒度是影响锗片表面粗糙度和研磨速率的主要因素，磁极转速对表面粗糙度的影响最大，质量比对表面粗糙度和研磨速率的影响不大。
中图分类号: