现代制造工程 ›› 2017, Vol. 437 ›› Issue (2): 30-34.doi: 10.16731/j.cnki.1671-3133.2017.02.006

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镁合金AZ91D化学机械抛光工艺研究

黄华栋1,2, 卞达2, 杨大林2, 赵永武2, 吴冬燕1   

  1. 1 苏州工业职业技术学院,苏州 215104
    2 江南大学机械工程学院,无锡 214122
  • 收稿日期:2015-08-12 出版日期:2017-02-28 发布日期:2018-01-08
  • 作者简介:黄华栋,副教授,硕士,主要从事摩擦学与表面工程技术、先进制造技术等方面的研究,已发表论文二十多篇
    赵永武,教授,博士研究生导师,主要从事摩擦学与表面工程技术等方面的研究
    E-mail:huanghd29@163.com
  • 基金资助:
    国家自然科学基金资助项目(51675232,51005102);江苏高校品牌专业建设工程项目(PPZY2015B186);江苏高校高级访问学者资助项目;江苏高校“青蓝工程”资助项目;苏州市教科研资助项目(GJNP201617);苏工院教科研资助项目

Study on chemical mechanical polishing process for magnesium alloy AZ91D

Huang Huadong1,2, Bian Da2, Yang Dalin2, Zhao Yongwu2, Wu Dongyan1   

  1. 1 Suzhou Institute of Industrial Technology,Suzhou 215104,Jiangsu,China
    2 School of Mechanical Engineering,Jiangnan University,Wuxi 214122,Jiangsu,China
  • Received:2015-08-12 Online:2017-02-28 Published:2018-01-08

摘要: 将化学机械抛光技术(Chemical Mechanical Polishing,CMP)引入到镁合金片的抛光中,以硅溶胶、表面活性剂、螯合剂及pH调节剂为原料,以涡流搅拌的方法制备镁合金(AZ91D)抛光液。采用单因素法分析抛光过程中压力、转速、抛光液流量及抛光时间等参数对抛光效果的影响。实验结果表明:在压力为0.06MPa,抛光盘上盘转速为10r/min、下盘转速为50r/min,抛光液流量为160mL/min,抛光时间为8min的条件下,镁合金表面形貌良好;在此工艺条件下经过化学机械抛光后,镁合金表面粗糙度Ra能达到10nm。

关键词: 化学机械抛光, 镁合金, 工艺参数, 表面粗糙度

Abstract: The Chemical Mechanical Polishing(CMP) technology was introduced into magnesium alloy surface ultra-precision process,silica sol,active agent,chelating agent,pH regulator was used to prepare polishing solution by vortex mixing.At the same time,the effect of pressure,rotation,flow rates of sully process and time on the polishing were analyzed by singer factor test.The experimental results showed that:the pressure is 0.06MPa,upper plate speed is 10r/min,lower plate speed is 50r/min,flow rates of slurry is 160mL/min,polishing time is 8min,the alloy surface morphology is good ;under optimum conditions after chemical mechanical polishing,the surface roughness Ra of the alloy can reach 10nm.

Key words: Chemical Mechanical Polishing(CMP), magnesium alloy, process parameters, surface roughness

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